電化學分析系統(tǒng)/電化學分析儀      型號；HAD-LK98BII

由主機+系統(tǒng)軟件+電系統(tǒng)+計算機+打印機組成電化學分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)可成三十多種電化學研究與分析方法，應用于電化學機理研究、電過程動力學研究、金屬腐蝕、生物學及冶金、制藥、環(huán)境生態(tài)學域。測定無機金屬離子、有機物（酚類、酮類、芳香族化合物）。



術參數：
1、恒電位/恒電流
? 電位分辨率（對） 0.1mV
? 電流靈敏度 ≤50pA
? 時間分辨率（計時分析法） 0.1 mS
2、動態(tài)參數調整
? 電勢控制范圍 －10.0～+10.0V
? 恒電流范圍 -500～+500mA
? 槽壓 -50V～+50V
? 電位增量 0.2mV～50V
? 脈沖寬度 0.0001～10Sec
? 方波頻率 1～100KHz
? 交流頻率 1～10KHz
? 二次諧波交流頻率 1～1KHz
? 采樣間隔 0.0001～60000Sec
? 平衡時間 0～60000Sec
? 濾波參數 50Hz～1000KHz
? 電勢信號掃描范圍 10.0V
? 掃描速度 0.1mV/S～5000V/S（△E=1mV）
? 脈沖間隔 0.0001～60000Sec
? 脈沖振幅 0.001～0.5V
? 方波幅度 0.001～0.5V
? 交流幅度 0.001～0.4V
? 電解時間 1～60000Sec
? 電沉積時間 0～60000Sec
? 電流測量范圍 ±100mA～±10nA （8個量程檔位）





主要點：
可提供的電化學方法

恒電位術：單電位階躍計時電流法、雙電位階躍計時電流法、計時電量法、電流—時間曲線、開路電位--時間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。

線性掃描術：線性掃描伏安（譜）法、循環(huán)伏安法及無限次循環(huán)伏安、塔菲爾曲線、采樣電流譜（伏安）法、線性掃描溶出伏安法。

脈沖術：常規(guī)脈沖伏安（譜）法、差分脈沖伏安（譜）法、差分常規(guī)脈沖伏安（譜）法、差分脈沖溶出伏安法。

方波術：方波伏安（譜）法、循環(huán)方波伏安法、方波溶出伏安法。

恒電流術：單電流階躍計時電位法、雙電流階躍計時電位法、線性電流計時電位法、控制電流電解庫侖法。

交流術：交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法。

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